绕过EUV光刻机造出2nm芯片!ASML万万没想到。制裁来得如此之快

为了您更好的阅读互动体验,为了您及时看到更多内容,点个“关注”。绕过EUV光刻机造出2nm芯片!ASML万万没想到,制裁来得如此之快四年前,华为的崛起在科技领域引起了美国科技巨头的警觉,其创新实力对美国科技霸权构成了巨大威胁

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绕过EUV光刻机造出2nm芯片ASML万万没想到,制裁来得如此之快

四年前,华为的崛起在科技领域引起了美国科技巨头的警觉,其创新实力对美国科技霸权构成了巨大威胁。于是,美国采取了一系列严格的制裁措施,特别是对中国半导体企业的打压。台积电停止制造华为的麒麟芯片,富士康也选择背叛华为,停止代工华为手机。

时光荏苒,四年后的今天,华为已经实现了自主研发的7纳米工艺,推出了麒麟9000S芯片,从根本上绕过了这些制裁。此举让美国和全球科技产业重新审视了华为的技术实力,以及中国科技行业的崛起。


华为面临的美国制裁不仅是对华为自身的挑战,也对其供应链上的公司产生了深远的影响。其中,荷兰的ASML是全球最大的光刻机制造企业,它的市场地位在很大程度上受到了美国支持,因为ASML使用了大量的美国技术。因此,ASML实际上是被视为美国的“亲生子”。

在华为禁令公布后,ASML的EUV(极紫外光刻机)光刻机也无法出口到中国。这意味着美国将中国大陆半导体制造工艺锁定在了28纳米工艺,无法进一步提升制程水平。

令人意外的是,华为在禁令下成功推出了搭载麒麟9000S芯片的手机,采用自主研发的7纳米工艺。这使得华为在绕过制裁方面取得了巨大成功,也对ASML的地位提出了挑战。

在制裁初期,ASML的技术人员曾经嘲笑中国人,声称即使提供图纸,中国也无法制造高端光刻机。然而,仅仅过去四年的时间,华为推出了搭载麒麟9000S芯片的手机,采用了国产7纳米工艺,而且实现了大规模量产。这一成就让ASML的CEO感到后悔,认为他们太过自大,中国科技人员太聪明了。

在华为的制约下,ASML试图向中国大量出售DUV(深紫外光刻机)光刻机。根据ASML的最新财报,2023年第三季度,大陆市场达到了其全球销售的46%,而在第一季度和第二季度的占比分别为8%和24%。这表明ASML正在全力以赴向大陆市场出售DUV光刻机。

然而,华为的成功绕过ASML,推出了自主研发的7纳米工艺,对ASML构成了巨大威胁。华为的Mate 60 Pro采用了这一工艺,其性能媲美了搭载3纳米工艺的iPhone 15 Pro。华为已经增加了Mate 60手机的订单量,销量预计将达到5000万台,而美国的iPhone 15系列已经出现了大幅度的跳水。

未来,华为计划发布超级旗舰10系和9系芯片,采用3D堆叠工艺,其性能有望媲美高通和苹果。这意味着华为可以制造世界上最顶级的芯片,无需依赖ASML的EUV光刻机。因此,ASML的地位面临更大的挑战。


除了ASML的问题,日本的尼康和佳能等光刻机制造商也对EUV技术进行了挑战。ASML的崛起与美国日本的半导体竞争有关。ASML取代尼康成为唯一一家外国企业参与EUV技术的开发。这导致了尼康和佳能无法使用EUV技术,进一步巩固了ASML的地位。

佳能选择押注NIL(纳米压印光刻机)技术,这是一种不同于传统光刻技术的新型制程。NIL技术将微电路图案直接印在晶圆上,而不是采用传统的投影方式。NIL技术具有较低的功耗、较低的成本和更小的污染,但在制程方面不如EUV技术。

最近,佳能发布了一款NIL半导体制造设备,可以制造最小线宽为14纳米的图案,等效于5纳米工艺。此外,经改进的掩模还能制造2纳米芯片。这意味着中国可以利用NIL技术制造高端芯片,无需依赖ASML的EUV光刻机。

此外,NIL技术不包含美国技术,因此美国无法对其出口进行限制。这对美国科技企业构成了严重威胁,因为他们可能会失去对制程关键技术的控制。

四年前,华为面临美国的严格制裁,美国试图限制中国的半导体技术发展,尤其是在光刻机制造领域。然而,华为在禁令下取得了突破性的成功,绕过了这些制裁,取得了自主研发的7纳米工艺和麒麟9000S芯片。此举对ASML和美国科技企业构成了严重挑战。

同时,NIL技术的崛起也对ASML构成了威胁,因为它提供了一种绕过EUV技术制造高端芯片的方法,而不受美国技术出口的限制。这使中国有望在半导体领域获得更大的自主性。

因此,随着中国的科技行业崛起,美国的科技霸权可能会受到挑战。这一趋势表明,全球科技格局正在发生巨大的变化,科技实力和创新能力将成为未来的关键因素。同时,合作也将对全球科技创新和发展发挥至关重要的作用。华为的成功绕过制裁和NIL技术的崛起表明,科技产业正走向全球化,各国科技企业需要勇气和决心,坚持自主创新,为人类社会的发展作出更大的贡献。

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